德國蔡司場發(fā)射掃描電子顯微鏡Sigma 系列產(chǎn)品-華普通用
產(chǎn)品描述
蔡司Sigma
擁有高品質成像和先進顯微分析功能的FE-SEM
蔡司Sigma系列產(chǎn)品集場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)技術與良好的用戶體驗于一體,助您輕松實現(xiàn)構建成像和分析程序,同時提高工作效率。您可以將其用于新材料和顆粒的質量監(jiān)測,或研究生物和地質樣本。Sigma可實現(xiàn)高分辨率成像,它采用低電壓,能在1 kV或更低電壓下實現(xiàn)更高的分辨率和對比度。它出色的EDS幾何學設計可執(zhí)行高級顯微分析,以兩倍的速度和更高的精度獲取分析數(shù)據(jù)。
使用Sigma系列,暢游高端納米分析世界。
Sigma 360是一款直觀的成像和分析FE-SEM,是分析測試平臺的理想之選。
Sigma 560采用先進的EDS幾何學設計,可提供高通量分析,實現(xiàn)自動原位實驗。
產(chǎn)品優(yōu)勢
Sigma 360
分析測試平臺的理想之選,直觀的圖像采集
從設置到獲取基于人工智能的結果,均提供專業(yè)向導,為您保駕護航,助您探索直觀成像工作流。
可在1 kV和更低電壓下分辨差異,實現(xiàn)更高的分辨率和對比度。
可在極端條件下執(zhí)行可變壓力成像,獲得出色的非導體成像結果。
可在極端條件下完成可變壓力成像
用于分析和成像的NanoVP lite模式
新NanoVP lite模式和新探測器很容易在電壓低于5 kV時,從非導體中輕松獲取高質量數(shù)據(jù)。
這樣,就可增強成像和X射線能譜分析的性能,提供更多表面敏感信息,縮短采集時間,增強入射電子束流,提高能譜面分布分析速度。
aBSD1(環(huán)形背散射電子探測器)或新一代C2D(級聯(lián)電流)探測器可確保在低電壓條件下采集到出色圖像。
直觀成像工作流為您指引方向
從設置到獲取基于人工智能的結果,每一步都清晰明了
即使您是新手用戶,也能輕松獲得專業(yè)結果。Sigma系列獲取圖像迅速,易于學習和使用的工作流可節(jié)省培訓時間,簡化從導航到后期處理的每個步驟,讓您如虎添翼。
蔡司SmartSEM Touch中的軟件自動化可助您完成導航、參數(shù)設置和圖像采集等步驟。
接下來,ZEN core便可大顯身手:它配備針對具體任務的工具包,適用于后期處理。我們十分推薦人工智能工具包,它可助您基于機器學習進行圖像分割。
可在1 kV和更低電壓條件下分辨差異
增強的分辨率。優(yōu)化的襯度
光學鏡筒是成像和分析性能的關鍵。Sigma配用蔡司Gemini 1電子光學鏡筒,可對任何樣品提供出色的成像分辨率,尤其是在低電壓條件下。
Sigma 360的低電壓分辨率目前500 V時為1.9 nm。通過大幅度降低色差,1 kV時的分辨率已提升10%以上,可達1.3 nm。
現(xiàn)在成像比以往任何時候都輕松,無論是要求苛刻的樣品,還是在可變壓力(VP)模式下采用背散射探測。
可在極端條件下完成可變壓力成像
用于分析和成像的NanoVP lite模式
新NanoVP lite模式和新探測器很容易在電壓低于5 kV時,從非導體中輕松獲取高質量數(shù)據(jù)。
這樣,就可增強成像和X射線能譜分析的性能,提供更多表面敏感信息,縮短采集時間,增強入射電子束流,提高能譜面分布分析速度。
aBSD1(環(huán)形背散射電子探測器)或新一代C2D(級聯(lián)電流)探測器可確保在低電壓條件下采集到出色圖像。
直觀成像工作流為您指引方向
從設置到獲取基于人工智能的結果,每一步都清晰明了
即使您是新手用戶,也能輕松獲得專業(yè)結果。Sigma系列獲取圖像迅速,易于學習和使用的工作流可節(jié)省培訓時間,簡化從導航到后期處理的每個步驟,讓您如虎添翼。
蔡司SmartSEM Touch中的軟件自動化可助您完成導航、參數(shù)設置和圖像采集等步驟。
接下來,ZEN core便可大顯身手:它配備針對具體任務的工具包,適用于后期處理。我們十分推薦人工智能工具包,它可助您基于機器學習進行圖像分割。
Sigma 560
高通量分析,原位實驗自動化
對實體樣品進行高效分析:基于SEM的高速和通用分析。
實現(xiàn)原位實驗自動化:無人值守測試的全集成實驗室。
可在低于1 kV的條件下完成要求苛刻的樣品成像:采集完整的樣品信息。
可在1 kV和更低電壓條件下分辨差異
在1 kV或甚至在500 V時實現(xiàn)信息量豐富的成像和分析:Sigma 560的低千伏分辨率500 V時為1.5 nm。
在新的NanoVP lite模式下,使用新型aBSD或C2D探測器在可變壓力下輕松拍攝要求苛刻的樣品,加速電壓可低至3 kV。
正在研究電子設備的您肯定希望保持清潔的工作環(huán)境。使用等離子清洗儀(強烈推薦)和可通過6英寸晶圓的新型大尺寸樣品交換艙,防止您的樣品室受到污染。
對實體樣品進行高效分析
EDS:通用、高速,助您深入研究
Sigma 560的一流EDS幾何學設計可提高分析效率。兩個180°徑向相對的EDS端口確保了即使在低電壓小束流條件下,也能實現(xiàn)高通量無陰影元素面分布。
樣品室的附加EBSD和WDS端口可進行除EDS外的分析。
不導電樣品也可以使用全新的NanoVP lite模式進行分析,并能獲得更強的信號和更高的對比度。
全新的aBSD4探測器可輕松實現(xiàn)表面形貌復雜樣品的圖像采集。
實現(xiàn)原位實驗自動化
無人值守測試的全集成實驗室
Sigma原位實驗室是一種全集成式解決方案,它可以不依賴操作人員,通過無人值守的自動化工作流進行加熱和拉伸測試。
通過對納米級別的特征進行3D分析進一步擴展您的工作流:執(zhí)行3D STEM斷層成像或基于人工智能的圖像分割。
新aBSD4可實現(xiàn)實時3D表面建模(3DSM)。
對要求苛刻的樣品能夠輕松成像
可在1 kV和更低電壓條件下分辨差異
在1 kV或甚至在500 V時實現(xiàn)信息量豐富的成像和分析:Sigma 560的低千伏分辨率500 V時為1.5 nm。
在新的NanoVP lite模式下,使用新型aBSD或C2D探測器在可變壓力下輕松拍攝要求苛刻的樣品,加速電壓可低至3 kV。
正在研究電子設備的您肯定希望保持清潔的工作環(huán)境。使用等離子清洗儀(強烈推薦)和可通過6英寸晶圓的新型大尺寸樣品交換艙,防止您的樣品室受到污染。
對實體樣品進行高效分析
EDS:通用、高速,助您深入研究
Sigma 560的一流EDS幾何學設計可提高分析效率。兩個180°徑向相對的EDS端口確保了即使在低電壓小束流條件下,也能實現(xiàn)高通量無陰影元素面分布。
樣品室的附加EBSD和WDS端口可進行除EDS外的分析。
不導電樣品也可以使用全新的NanoVP lite模式進行分析,并能獲得更強的信號和更高的對比度。
全新的aBSD4探測器可輕松實現(xiàn)表面形貌復雜樣品的圖像采集。
技術
Gemini 1電子光學系統(tǒng)
Gemini 1電子光學系統(tǒng)由三個元件組成:物鏡、電子束推進器和Inlens探測器。其中,物鏡的設計將靜電場與磁場相結合,大大優(yōu)化光學性能的同時,降低了樣品受到的磁場影響。
如此也可實現(xiàn)對磁性材料等具有挑戰(zhàn)性的樣品的高品質成像。Inlens探測原理通過對二次電子(SE)和/或背散射電子(BSE)的探測來確保高效的信號檢測,同時大幅縮短獲取圖像的時間。
電子束推進器保證了小尺寸的電子束斑和高信噪比。
以靈活的探測獲取清晰圖像
Sigma配備了一系列不同的探測器,通過新探測技術對您的樣品進行表征。
使用ETSE和Inlens探測器的高真空模式可獲取表面形貌的高分辨率信息。
使用VPSE或C2D探測器的可變壓力模式可獲得清晰圖像。
使用aSTEM探測器可進行高分辨率透射電子成像。
采用不同的可選BSE探測器,如aBSD探測器,可以深入研究樣品的成分和表面形貌。
標準VP(左)和NanoVP lite(右)模式,氣體分布(粉紅色),電子束裙邊(綠色)。
NanoVP lite模式
采用NanoVP lite模式進行分析和成像,在低電壓條件下可獲得更高的圖像質量,更快速地獲取更準確的分析數(shù)據(jù)。
在NanoVP lite模式下,裙邊效應降低且電子束的氣體路徑長度(BGPL)減小。裙邊減小會提高SE和BSE成像的信噪比。
帶有五象限的可伸縮式的環(huán)形aBSD可提供出色的材料成分襯度:在NanoVP lite工作過程中,該探測器配備了安裝在極靴下方的束流套管,其可提供低電壓下的高通量高襯度成分和表面形貌成像,適用于可變壓力和高真空條件。